品牌、文化与平台的完美组合——参加国际商标协会第134届年会的启示

• 作者: 刘洪
• 来源期刊: 中华商标
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 报道
• 页码范围: 18-19
• 页数: 2页
• 语种: 中文

摘要

2012年5月5日至9日,国际商标协会(简称"INTA")第134届年会在美国首都华盛顿召开.来自140多个国家的商标权利人、律师、商标代理人和其它领域的知识产权从业人员共9500多人出席了本届年会,人数打破了以往纪录,堪称当今世界规模最大的商标界盛会.恒源祥集团于去年正式成为该协会的会员,并由刘瑞旗董事长带队参加了上届年会.今年,笔者有幸作为公司法务代表参加这一盛会,与世界各国商标理论及实务界的同行沟通交流,共同探讨品牌发展的轨迹和商标运用、保护、管理的经验,收获颇丰.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘洪		6	0	0.0	0.0