净化厂房中气相分子沾污(AMC)的来源和危害

• 作者: 潘文伟 蔡蕾
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 净化厂房 空气中分子污染物 酸性分子污染物 碱性分子污染物 可凝结的分子有机化合物 分子掺杂物
• 年，卷（期）: 2012,（12）
• 页码范围: 44-48
• 分类号: TN305.97
• 字数: 6489字
• 语种: 中文

摘要

越来越多的研究发现,在半导体圆片加工净化厂房中,除了存在空气悬浮颗粒沾污外,还存在以气相或蒸汽形式存在的分子污染物(Airborne Molecular Contaminants,AMC).随着特征尺寸(CD)的不断缩小,AMC将会越来越严重地影响圆片加工质量和成品率,并会影响净化厂房内工作人员的身体健康.文章介绍了AMC的分类、来源、危害性、控制标准和方法,希望以此引起人们对AMC的重视,并采取相应的控制措施.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘文伟		1	1	1.0	1.0
2	蔡蕾		1	1	1.0	1.0