脉冲N离子束轰击对TiAIN膜层和W18Cr4V高速钢结合力的影响

• 作者: 刘常升 吕树国 张罡
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 电孤离子镀 W18Cr4V高速钢 N离子束轰击 TiAlN膜层 结合力
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 科技关注
• 页码范围: 18-20
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文

摘要

用电弧离子镀在刀具表面制备TiAlN膜层有利于提高其硬度和耐磨性能，但却降低了膜基结合力，影响其使用寿命。采用UVN0．5D2I脉冲离子束辅助电弧离子镀沉积设备，在W18Cr4V高速钢基材上沉积TiAlN膜层。研究了基材N离子束轰击及在膜层沉积过程中N离子束辅助轰击对TiAlN膜层结合力的影响。结果表明：膜层沉积之前，N离子轰击与基材原子发生了相互作用，造成了原子级洁净的表面，形成了大量的高密度形核点，且形成了含有N元素的改性层；在膜层沉积初期，脉冲N离子束轰击形成了由W，Cr，V，Fe，N，Ti，Al元素组成的具有一定厚度的“扩散层”，其与“改性层”的共同作用是膜基结合力提高的主要原因,膜基结合力最高为80N。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘常升	东北大学材料与冶金学院	252	2803	27.0	39.0
2	张罡	沈阳理工大学中俄联合高能束流实验室	104	425	11.0	13.0
3	吕树国	沈阳理工大学中俄联合高能束流实验室	9	26	3.0	4.0