碳掺杂对CrN镀层显微硬度与组织结构的影响

• 作者: 李洪涛 胡鹏飞 蒋百灵
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 CrCN镀层 原子力显微镜 X射线衍射 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 158-162
• 分类号: TG178
• 字数: 2911字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2012.02.15

摘要

采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrCN镀层以研究C靶电流对镀层显微硬度的影响,并通过X射线衍射、原子力显微镜、X射线光电子能谱和透射电镜对镀层进行了分析.结果表明:当C靶电流由0增加到1.5 A时,镀层显微硬度由1930 HV增加到2300 HV,提高约19％,并且镀层的颗粒明显变小；X射线衍射和透射电镜分析表明,随着C靶电流增大,镀层由晶态向非晶态转变；X射线光电子能谱分析表明,镀层碳元素主要以sp2键、sp3键和C-Cr键的形式存在.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料科学与工程学院	241	5240	40.0	64.0
2	胡鹏飞	西安理工大学材料科学与工程学院	6	43	5.0	6.0
3	李洪涛	西安理工大学材料科学与工程学院	23	146	8.0	10.0