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摘要:
采用蒙特卡罗( Monte Carlo)方法,研究了脉冲激光烧蚀沉积纳米硅(Si)晶薄膜过程中,靶衬间距对传输中溅射粒子密度和速度分布的影响.研究结果表明,在相同时刻,烧蚀粒子和环境气体的交叠区离开靶面的距离随靶衬间距的增加而增大,并且到达离开表面最大距离的时间随靶衬间距的增大而明显增长.速度分布曲线的峰位和峰值强度均出现了周期性变化的趋势,并且均随着靶衬间距的增大而增长.
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关键词云
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文献信息
篇名 靶衬间距对传输中溅射粒子密度和速度分布的影响
来源期刊 中国激光 学科 工学
关键词 激光技术 蒙特卡罗模拟 靶衬间距 溅射粒子 密度分布 速度分布
年,卷(期) 2012,(1) 所属期刊栏目 激光加工与应用
研究方向 页码范围 81-85
页数 5页 分类号 TG156.99
字数 语种 中文
DOI 10.3788/CJL201239.0103005
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 傅广生 184 817 13.0 17.0
2 邓泽超 48 123 6.0 8.0
3 褚立志 47 155 7.0 10.0
4 丁学成 44 89 5.0 7.0
5 梁伟华 36 92 6.0 8.0
6 王英龙 96 301 9.0 12.0
7 翟小林 3 6 1.0 2.0
8 赵亚军 14 118 3.0 10.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
激光技术
蒙特卡罗模拟
靶衬间距
溅射粒子
密度分布
速度分布
研究起点
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中国激光
月刊
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31-1339/TN
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