空心阴极电子束对多弧离子镀TiAlN薄膜组织形貌及摩擦学性能的影响

• 作者: 吴化 宋力 李雪松 杨悦
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 空心阴极 TiAlN薄膜 电子束 离化率
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 19-24
• 分类号: TG148
• 字数: 2957字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2012.01.05

摘要

采用空心阴极电子束辅助多弧离子镀的方式在WC基体上制备了TiAlN薄膜,讨论了电子柬能量的大小对膜层组织形貌及摩擦学性能的影响.利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、表面轮廓测试仪及材料表面微纳米力学测试系统对薄膜的相组成、微观结构、三维形貌及摩擦学性能进行了检测和分析.结果表明:在未施加空心阴极电子束作用时薄膜具有明显的( 112)择优取向,随着空心阴极电流的提高,薄膜逐渐朝着多晶面生长,择优取向减弱.电子束对膜层的形貌及摩擦学性能有显著影响,随着电子束能量的提高,膜层逐渐变得致密、平整,表面粗糙度和摩擦系数均降低,抗磨损性能提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴化	长春工业大学先进结构材料教育部重点实验室	66	400	11.0	15.0
2	李雪松	长春工业大学先进结构材料教育部重点实验室	47	304	10.0	14.0
3	杨悦	长春工业大学先进结构材料教育部重点实验室	13	68	5.0	8.0
4	宋力	长春工业大学先进结构材料教育部重点实验室	2	28	2.0	2.0