高管团队背景特征、高管激励与企业R&D投入——来自A股上市高新技术企业的数据分析

• 作者: 何霞 苏晓华
• 来源期刊: 科技管理研究
• 学科: 经济
• 关键词: 高管团队 高层梯队理论 TMT背景特征 高管激励 企业R&D投入
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 创新人才管理
• 页码范围: 100-108
• 分类号: F272|F272.92
• 字数: 13268字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7695.2012.06.024

摘要

以沪深两市105家高新技术上市企业为研究样本,选取衡量高管团队背景特征的六项指标、高管激励的三项指标及企业R&D投入的两项指标,构建高管团队背景特征、高管激励与企业R&D投入的调节效应模型.研究结果表明:(1)高管团队教育程度和专业背景与企业R&D的人力资源投入水平显著正相关；职能背景与企业R&D经费投入水平显著正相关；而高管团队年龄与企业R&D的经费投入水平显著负相关.(2)高管薪酬激励和股权激励正向促进了企业的R&D投入水平.(3)高管股权激励在高管团队年龄和企业R&D经费投入的之间关系上起到了重要的调节作用；高管晋升激励在高管团队性别和企业R&D人力资源投入之间的关系上发挥着重要的调节作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何霞		20	332	6.0	18.0
5	苏晓华		45	607	14.0	24.0