一沙一世界:晶体管工艺之路

• 来源期刊: 微型计算机
• 年，卷（期）: 2012,（21）
• 所属期刊栏目: IT技术趋势展望
• 页码范围: 146
• 页数: 1页
• 语种: 中文

摘要

2013年,Intel会将芯片工艺从22nm推进到13nm,2015年以后还会推进到10nm、7nm甚至5nm.但当工艺尺寸进一步减小时,会遇到许多麻烦.目前的光刻设备使用波长为193nm的光进行制造.在193nm提升到下一代的157nm波长时,大部分透过设备如镜头的材质对157nm波长的光已经呈高吸收状态,使得目前的材料无法完成光刻过程.如果要彻底替换材料,不但耗资巨大,前景也并不明显.