退火处理对SnO2：F薄膜光电性能的影响

• 作者: 刘涌 宋晨路 李铭 韩高荣 高倩
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Low-e SnO2∶F薄膜 退火 常压化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 132-135
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文

摘要

SnO2∶F薄膜作为low-e玻璃的表面功能层材料,广泛应用于节能镀膜玻璃。Low-e玻璃在后期退火（深加工）后,其性能的变化已经引起了学术研究和实际应用方面的的关注。我们对于用化学气相沉积法在玻璃表面沉积的约250nm厚的SnO2∶F薄膜进行不同的退火处理。并通过一系列的研究,结果发现,薄膜的结构、组成、电学、光学性能在氮气和空气两种不同的退火气氛下会有显著的变化。SnO2∶F薄膜的Low-e性能经过空气中高温退火后下降明显。通过计算对比退火后SnO2∶F薄膜的晶格常数和晶胞尺寸,提出了一种对于薄膜Low-e性能下降的合理解释。