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摘要:
为深入了解高压绝缘子污秽的组成和带电清洗剂对高压绝缘子表面污秽的去除机理,对高压绝缘子表面污秽进行了扫描电镜、红外光谱、x-射线衍射、x-射线荧光光谱和离子色谱分析,用接触角法研究了污秽粘附于绝缘子表面的作用力,测定了带电清洗剂和高压绝缘子的表面张力(γ);通过杨氏和表面能方程,分别计算出粘附功Wa、铺展系数Sw/s和浸湿功Wi。研究结果表明,污秽与绝缘子表面之间为van der Waals引力,无氢键形成。带电清洗剂表面张力较小,Wa〉Wi〉Sw/s≥0,表明带电清洗剂能在被污染的绝缘子表面自发浸湿和铺展。在带电清洗剂的作用下,减小了污秽与绝缘子表面的van der Waals结合力,使污秽从绝缘子表面脱附下来。该研究对开发新的绝缘子带电清洗剂提供了实验与理论依据。
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文献信息
篇名 绝缘子污秽成分分析与清洗剂去污机理研究
来源期刊 高电压技术 学科 工学
关键词 高压绝缘子 污秽 成分分析 带电清洗剂 去污机理 表面张力
年,卷(期) 2012,(4) 所属期刊栏目 过电压与绝缘
研究方向 页码范围 892-898
页数 7页 分类号 TM755
字数 6238字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 罗运柏 武汉大学化学与分子科学学院 130 1513 19.0 33.0
2 于萍 武汉大学化学与分子科学学院 113 1388 19.0 32.0
3 朱天容 武汉大学化学与分子科学学院 1 29 1.0 1.0
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高电压技术
月刊
1003-6520
42-1239/TM
大16开
湖北省武汉市珞瑜路143号武汉高压研究所
38-24
1975
chi
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