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衬底温度对MOCVD-ZnO薄膜特性的影响
衬底温度对MOCVD-ZnO薄膜特性的影响
作者:
孙小虎
曾祥斌
薛俊明
陈阳洋
雷青松
鞠洪超
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
MOCVD
绒面ZnO薄膜
衬底温度
太阳电池
摘要:
利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)生长技术,制备本征ZnO薄膜,并研究薄膜的结构、形貌及光电等性能.结果表明:衬底温度对ZnO薄膜的微观结构、电学、光学及表面形貌等有显著影响.在衬底温度为180℃时获得电阻率为2.17×10-2Ω·cm.平均透过率为85%的低电阻、高透过率、结晶质量高、表面呈绒面结构的本征ZnO薄膜.对本征ZnO薄膜进一步掺杂和结构优化有望用于硅薄膜太阳能电池的前电极.
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篇名
衬底温度对MOCVD-ZnO薄膜特性的影响
来源期刊
人工晶体学报
学科
物理学
关键词
MOCVD
绒面ZnO薄膜
衬底温度
太阳电池
年,卷(期)
2012,(6)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
1494-1497
页数
4页
分类号
O484
字数
2629字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
曾祥斌
华中科技大学电子科学与技术系
45
285
10.0
14.0
2
孙小虎
华中科技大学电子科学与技术系
2
6
1.0
2.0
3
雷青松
华中科技大学电子科学与技术系
12
56
5.0
6.0
4
薛俊明
15
43
5.0
5.0
5
鞠洪超
2
7
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陈阳洋
华中科技大学电子科学与技术系
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2019(1)
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研究主题发展历程
节点文献
MOCVD
绒面ZnO薄膜
衬底温度
太阳电池
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
主办单位:
中材人工晶体研究院有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-985X
CN:
11-2637/O7
开本:
16开
出版地:
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
邮发代号:
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
总被引数(次)
38029
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