化学合成荧光量子点在指纹显现中的应用

• 作者: 于迎春 余雪娇 刘建军 左胜利
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 量子点 荧光 指纹 显现
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 855-862
• 分类号: O614
• 字数: 5702字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1095.2012.20020

摘要

简要阐述了量子点的光学特性、制备方法及其在指纹显现中的应用.重点介绍了Ⅱ～Ⅵ族的CdS基、CdTe基、CdSe基、ZnSe基量子点和Ⅲ～Ⅴ族的InP量子点的化学合成、修饰及其在指纹显现中的研究进展,最后介绍了第Ⅳ族C、Si量子点的研究现状,并对其在指纹显现中的潜在应用作了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘建军	北京化工大学理学院	49	334	9.0	17.0
2	左胜利	北京化工大学理学院	37	268	8.0	15.0
3	于迎春	北京化工大学理学院	31	278	9.0	16.0
4	余雪娇	北京化工大学理学院	2	6	1.0	2.0