(Cu,Al)掺杂ZnO薄膜表面处缺陷的拉曼光谱研究

• 作者: 刘学超 卓世异 施尔畏 杨建华 熊泽
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO 稀磁半导体 界面 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 光谱分析
• 页码范围: 109-113
• 分类号: O472.5
• 字数: 2331字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20123301.0109

摘要

采用电感耦合等离子体增强物理气相沉积法制备了(Cu,Al)掺杂ZnO薄膜,超导量子干涉磁强计测试结果表明,薄膜具有室温的铁磁性.采用激光共聚焦拉曼(Raman)光谱研究了(Cu,Al)掺杂ZnO薄膜的表面特性,以两种处理方式对薄膜进行了Raman光谱测试:共聚焦模式从薄膜表面开始至不同深度处进行测试；对薄膜样品进行预处理加工,采用面扫描模式在薄膜平面对(Cu,Al)掺杂ZnO薄膜的斜面进行测试.分析了Raman光谱A1(LO)峰的中心位置和强度变化,结果表明,界面处晶格应力和缺陷明显增强.这些晶格畸变和点缺陷的存在会对体系的铁磁性有促进作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨建华	中国科学院上海硅酸盐研究所	41	367	10.0	18.0
2	施尔畏	中国科学院上海硅酸盐研究所	71	1736	25.0	41.0
3	刘学超	中国科学院上海硅酸盐研究所	13	94	4.0	9.0
4	卓世异	中国科学院上海硅酸盐研究所	5	13	2.0	3.0
8	熊泽	中国科学院上海硅酸盐研究所	2	10	2.0	2.0