聚合物太阳电池ITO电极的光刻制备

• 作者: 严慧敏 刘桂林 朱华新 李果华 郭颖
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: ITO电极 光刻 化学腐蚀 光学相干断层扫描
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 页码范围: 1549-1553,1560
• 页数: 6页
• 分类号: TN27
• 字数: 3065字
• 语种: 中文

摘要

使用光刻的方法进行ITO电极的制作,可制得精细的电极结构,本文重点阐述了使用光刻制备ITO电极的方法,包括表面清洗、曝光参量、显影条件、腐蚀工艺等,其中较为理想的ITO光刻工艺为:50 s曝光时间、30 s显影时间、20s化学腐蚀时间.并用对腐蚀工艺条件进行了理论分析,并使用光学相干断层扫描(OCT)技术对制备的电极进行了测量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭颖	江南大学理学院	20	69	5.0	7.0
2	朱华新	江南大学理学院	30	52	5.0	5.0
3	刘桂林	江南大学理学院	22	41	4.0	5.0
4	严慧敏	江南大学理学院	11	30	3.0	4.0