中微公司将发布新一代等离子刻蚀设备

• 来源期刊: 电脑与电信
• 学科: 工学
• 关键词: 刻蚀设备 等离子 半导体设备 产品开发 技术专家 设备制造商 新闻发布会 首席执行官
• 年，卷（期）: 2012,（10）
• 所属期刊栏目: 新闻链接
• 页码范围: 15-16
• 页数: 2页
• 分类号: TN405
• 字数: 2830字
• 语种: 中文

摘要

上海2012年10月22日电／美通社／－今年IC China（一年一度在上海举办的业内知名半导体展会和论坛）展会期间，先进的设备制造商－中微半导体设备（上海）有限公司（以下简称“中微公司”），将于本周三在上海世博展览馆，就其设计创新、技术领先的新一代刻蚀设备产品举办新闻发布会。届时，中微公司董事长兼首席执行官尹志尧博士将介绍公司产品开发的最新进展；中微公司资深技术专家将在会上介绍公司研发部门开发成功的两款新一代刻蚀设备。