纯钛微弧氧化阳极工艺过程模型的建立及实验研究

• 作者: 吕宇鹏 朱先俊 朱瑞富 王宏元 王志刚 肖桂勇
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 微弧氧化 纯钛 工艺过程 阳极 模型
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 工艺
• 页码范围: 34-38
• 分类号: TG174
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2012.07.008

摘要

对纯钛微弧氧化陶瓷膜在工艺过程中的生长规律进行了实验研究,分析了陶瓷层表面形貌、厚度、相结构等不同生长阶段的特点.基于微弧氧化工艺过程阳极等效电路,建立了电极电压、电流密度、频率、占空比、时间等工艺参数对陶瓷膜性能影响的理论模型.模型分析结果表明:在陶瓷层成膜后,随着膜层厚度的增加,金红石相TiO2相对含量增加；膜层厚度不变时,工艺过程趋于停止.模型分析与实验结果是吻合的,为提高陶瓷膜层性能并改善微弧氧化工艺提供了理论基础.