磁控溅射掺碳TiB2薄膜的Raman光谱与摩擦行为

• 作者: 刘敏 张体峰 盛新兰 许晓静 辛喜玲
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 掺碳 TiB2薄膜 中间层 摩擦因数 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: 表面工程
• 页码范围: 30-32,38
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2012.08.007

摘要

采用磁控溅射技术,使用SiC薄膜和Ti膜作为中间层在Cr12MoV钢表面制备掺碳TiB2 (TiB2-C)薄膜,研究掺碳TiB2薄膜的Raman光谱、纳米压痕和摩擦行为.结果表明:溅射功率过高或过低都不利于掺入的C元素在薄膜中以DLC形式存在；C元素掺杂降低了TiB2薄膜的纳米硬度和弹性模量；以DLC形式存在的掺入的C能有效降低室温干摩擦(Si3N4球对摩件)条件下TiB2薄膜的摩擦因数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许晓静	江苏大学先进成形技术研究所	227	1298	17.0	26.0
2	刘敏	江苏大学先进成形技术研究所	39	142	5.0	10.0
3	辛喜玲	江苏大学先进成形技术研究所	7	28	3.0	5.0
4	盛新兰	江苏大学先进成形技术研究所	13	43	5.0	6.0
5	张体峰	江苏大学先进成形技术研究所	10	65	4.0	8.0