射频磁控溅射生长ZnO薄膜及性能研究

• 作者: 冯晓炜 况慧芸 刘辉文 朱华
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 透过率 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 页码范围: 130-135
• 分类号: O484
• 字数: 2891字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射技术在玻璃衬底生长ZnO及ZnO∶ Al薄膜,通过改变氩氧比、衬底温度和溅射功率获得样品.用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、扫描电子显微镜进行表征.结果发现:室温下40W的溅射功率1h的溅射时间,改变氩氧比获得样品.XRD图谱中无明显衍射峰出现；紫外可见光分光光度计测试结果显示400nm波长以下,透光率在90％以上.说明薄膜生长呈无定形.衬底温度高于200℃样品,XRD有明显(002)衍射峰出现,在400～ 800 nm波长范围,透光率在88％以上,衬底温度300℃时,XRD衍射峰半高宽最小,晶粒尺寸大.TEM显示:衬底300℃晶粒尺寸最大,晶体发育好.在200℃掺铝ZnO薄膜,(002)峰不明显,有(101)峰出现.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘辉文	景德镇陶瓷学院机电学院	11	24	3.0	4.0
2	况慧芸	景德镇陶瓷学院科技艺术学院	12	61	4.0	7.0
3	朱华	景德镇陶瓷学院机电学院	30	108	6.0	8.0
7	冯晓炜	景德镇陶瓷学院科技艺术学院	7	17	2.0	4.0