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摘要:
We present the findings for the quantum conductance staircase of holes that is caused by the edge channels in the ultra-shallow p-type silicon quantum well (Si-QW), 2 nm, confined by the δ-barriers heavily doped with boron on the n-type Si (100) surface. This longitudinal quantum conductance staircase, Gxx, is revealed by the voltage applied to the Hall contacts, Vxy, to a maximum of 4e2/h. In addition to the standard plateau, 2e2/h, the variations of the Vxy voltage appear to exhibit the fractional forms of the quantum conductance staircase with the plateaus and steps that bring into correlation respectively with the odd and even fractional values.
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施耐德Quantum140系列PLC
Bently3500
ModbusTCP通信
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文献信息
篇名 Quantum Conductance Staircase of Edge Hole Channels in Silicon Quantum Wells
来源期刊 现代物理(英文) 学科 数学
关键词 Quantum CONDUCTANCE STAIRCASE EDGE CHANNELS Silicon Nanosandwich ODD and Even Fractional Values
年,卷(期) 2012,(11) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1771-1775
页数 5页 分类号 O1
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研究主题发展历程
节点文献
Quantum
CONDUCTANCE
STAIRCASE
EDGE
CHANNELS
Silicon
Nanosandwich
ODD
and
Even
Fractional
Values
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期刊影响力
现代物理(英文)
月刊
2153-1196
武汉市江夏区汤逊湖北路38号光谷总部空间
出版文献量(篇)
1826
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