新型不对称苯并噻唑三次甲基菁染料的合成及光稳定性研究

• 作者: 张丹 王海军 郑昌戈 郭琳 陈秀英 高海燕
• 来源期刊: 有机化学
• 学科: 化学
• 关键词: 苯并噻唑菁染料 光降解 循环伏安曲线 荧光 氧化电位 光稳定性
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1445-1449
• 分类号: O626.25
• 字数: 5007字
• 语种: 中文
• DOI: 10.6023/cjoc1201091

摘要

合成了系列杂环氮原子具有不同取代基的不对称苯并噻唑三次甲基菁染料,染料结构经过质谱、1H NMR表征,测试了染料在乙醇中的吸收和荧光发射光谱,染料的最大吸收值和荧光发射值分别在628～631和662～666 nm之间.染料在溶剂中几乎无荧光,可以极大的降低染料自身的荧光背景干扰.染料的光降解实验表明:喹啉环 上辛烷基取代和噻唑环上苄基取代时,染料的光稳定性最强.染料8a～8d的光降解速率常数分别为6.38×10-4,12.5×10-4,2.68×10-4和6.30×10-4 mol·min-1.循环伏安实验法测试了染料的氧化电位.