二氧化硅膜的制备及分离CH4/CO2气体的研究

• 作者: 张冰 张志刚 李文秀 陈立峰
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 物理学
• 关键词: 分离因子 多分离层 二氧化硅膜
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 56-61
• 分类号: O484
• 字数: 3536字
• 语种: 中文

摘要

以正硅酸乙酯为前驱体,通过溶胶-凝胶法,采用多分离层镀膜工艺制备了用于分离CH4/CO2气体二氧化硅无机膜.通过TG-DSC、粒度分析仪及SEM对二氧化硅膜进行表征,结果表明分别利用HNO3、EtOH及DMF作为催化剂、助溶剂及添加剂可制备出表面性能较好的二氧化硅膜；利用多分离层镀膜工艺制备的二氧化硅膜,在0.025MPa下,对CH4/CO2气体的分离因子高达1.73,其效果明显高于利用单一溶胶涂膜的分离因子1.6,有效的提高了二氧化硅膜对气体的分离能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李文秀	沈阳化工大学化学工程学院	118	421	9.0	12.0
2	张志刚	沈阳化工大学化学工程学院	87	295	9.0	12.0
3	陈立峰	沈阳化工大学化学工程学院	12	45	5.0	6.0
4	张冰	沈阳化工大学化学工程学院	1	7	1.0	1.0