外加偏置电场对类金刚石薄膜激光损伤形貌影响研究

• 作者: 吴慎将 徐均琪 施卫 王馨梅 苏俊宏
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 外加偏置电场 无氢类金刚石 激光损伤 损伤形貌
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 11-14
• 分类号: O484.4
• 字数: 2153字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2012.01.03

摘要

研究了使用非平衡测控溅射技术沉积的类金刚石(DLC)薄膜其抗激光损伤能力；通过对比施加偏置电场前后薄膜的损伤情况,发现:DLC薄膜施加偏置电场后,薄膜的激光损伤区域内有大量丝状薄膜,损伤形貌存在明显不同,损伤面积减小；薄膜的激光损伤情况得到改善.实验结果显示,外加偏置电场对DLC薄膜的损伤有影响.认为:激光在DLC薄膜中激励产生的光生电子在电场的作用下产生快速漂移,间接降低了激光辐照区域内的局部能量密度,减缓了薄膜的石墨化,提高了DLC薄膜的抗激光损伤能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐均琪	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	87	611	13.0	20.0
2	施卫	西安理工大学应用物理系	85	925	17.0	25.0
3	王馨梅	西安理工大学应用物理系	24	130	7.0	10.0
4	苏俊宏	西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室	111	496	12.0	16.0
5	吴慎将	西安理工大学应用物理系	3	13	2.0	3.0