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磁控溅射法制备β型Fe3Si8M系三元薄膜
磁控溅射法制备β型Fe3Si8M系三元薄膜
作者:
李晓娜
李胜斌
董闯
郑月红
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
β-FeSi2
磁控溅射
非晶薄膜
半导体
摘要:
二元β-FeSi2是-种非常有潜力的环境友好型半导体,但由于是线性化合物,所以很难制备较高质量的β单相.本文从β-FeSi2相的基本团簇出发,利用“团簇+连接原子”结构模型,设计制备了Fe3SisM(M=B,Cr,Ni,Co)系三元薄膜.研究了Fe3Si8M系三元薄膜的结构、成分和光电特性.结果表明,溅射态薄膜都为非晶态,经850℃/4h退火后可全部转换为晶态,引入的第三组元M不同会影响退火后的相转变和结晶质量,Cr和B为第三组元时可实现单-β相,Co作为第三组元时,薄膜以Ⅸ相为主表现为金属特性.B,Cr和Ni作为第三组元的样品中半导体性质都有不同程度的体现,但相比较而言,Fe2.7Si8480.9薄膜的半导体性能最为明显,其电阻率为0.17Ω.cm、载流子浓度为2.8×10^20cm^-3、迁移率为0.13cm2/V.S,带隙宽度约为0.65eV.所以引入合适的第三组元可以扩展序相相区,并实现晶态三元β型硅化物薄膜与二元β-FeSi2薄膜的半导体性能相近.
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文献信息
篇名
磁控溅射法制备β型Fe3Si8M系三元薄膜
来源期刊
物理学报
学科
物理学
关键词
β-FeSi2
磁控溅射
非晶薄膜
半导体
年,卷(期)
2012,(24)
所属期刊栏目
凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向
页码范围
496-504
页数
分类号
O484.43
字数
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
董闯
大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室
198
2023
23.0
34.0
2
李晓娜
大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室
25
152
7.0
11.0
3
郑月红
大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室
5
4
2.0
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李胜斌
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β-FeSi2
磁控溅射
非晶薄膜
半导体
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
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