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摘要:
以电阻率为性能指标,采用正交试验对化学镀Ni-W-P的镀液配方进行优化,得到最优配方与工艺为:NiSO4·6H2O 15 g/L,NaH2PO2·H2O 25 g/L,Na2WO4·2H2O 10g/L,Na3C6H5O7·2H2O60 g/L,C3H6O3 5 mL/L,NH4C1 30g/L,pH=9,温度88℃,时间2h.采用扫描电镜、X射线衍射仪、显微硬度计等研究了Ni-W-P合金镀层的表面形貌、结构、显微硬度等性能.在最佳配方与工艺下,化学镀Ni-W-P的镀速为6.9 μm/h,所得Ni-W-P合金镀层的电阻率为204.7 mΩ·cm,为典型的非晶态结构,表面均匀分布着大小不一、致密的胞状结构,镀层与基体之间结合力牢固,显微硬度高于Ni-P镀层,耐磨性和耐蚀性均优于Ni-P镀层.
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Nd-Fe-B永磁体
Ni-P
耐蚀性
化学镀工艺
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 化学镀镍-钨-磷非晶态合金的研究
来源期刊 电镀与涂饰 学科 工学
关键词 镍-钨-磷合金 化学镀 正交试验 电阻率
年,卷(期) 2012,(7) 所属期刊栏目 化学镀
研究方向 页码范围 16-19
页数 分类号 TQ153.12
字数 2910字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-227X.2012.07.005
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 姜世杭 扬州大学机械工程学院 35 106 5.0 7.0
2 徐震宇 扬州大学机械工程学院 3 8 2.0 2.0
3 王文明 扬州大学机械工程学院 3 7 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
镍-钨-磷合金
化学镀
正交试验
电阻率
研究起点
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电镀与涂饰
半月刊
1004-227X
44-1237/TS
大16开
广州市科学城科研路6号
46-155
1982
chi
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