吲哚方酸菁染料在表面活性剂水溶液中的光降解

• 作者: 刘永强 宋波 王晓辉 马文辉
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 菁染料 方酸染料 表面活性剂 光降解
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 721-723
• 分类号: O621.2
• 字数: 1657字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1095.2012.00567

摘要

考察了4种含有不同N位取代基的对称吲哚方酸菁染料在阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、阴离子表面活性剂十二烷基硫酸钠(SDS)和非离子表面活性剂曲拉通(TX-100)水溶液中的光降解行为,结果表明.表面活性剂对染料分子具有保护作用,其影响大小为CTAB＞TX-100＞SDS,分子中有羧基的染料受影响程度最大.在表面活性剂浓度较低时,染料光降解程度随着表面活性剂浓度的增加而增加,但形成胶束后,染料的光降解程度则随着表面活性剂浓度的升高而降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马文辉	齐齐哈尔大学化学与化学工程学院	73	512	12.0	21.0
2	宋波	齐齐哈尔大学化学与化学工程学院	81	331	8.0	16.0
3	王晓辉	齐齐哈尔大学化学与化学工程学院	1	3	1.0	1.0
4	刘永强	齐齐哈尔大学化学与化学工程学院	4	5	2.0	2.0