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PECVD布气装置气流场的模拟分析
PECVD布气装置气流场的模拟分析
作者:
朱红萍
王成刚
金捷
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
等离子体增强化学气相沉积方法
布气装置
气流场分布
模拟分析
摘要:
采用Fluent、Templot等相关软件对PECVD布气装置气流的流动过程进行模拟,并进行可视化分析;得出气流入口采用直口开孔方式,同时,气流入口到布气板距离L=4.5mm时布气最均匀,这为均匀布气装置的研制提供了依据.
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文献信息
篇名
PECVD布气装置气流场的模拟分析
来源期刊
现代制造工程
学科
工学
关键词
等离子体增强化学气相沉积方法
布气装置
气流场分布
模拟分析
年,卷(期)
2012,(12)
所属期刊栏目
制造技术/工艺装备
研究方向
页码范围
93-96,123
页数
5页
分类号
TB75
字数
2252字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王成刚
上海大学机电工程及自动化学院
5
21
3.0
4.0
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等离子体增强化学气相沉积方法
布气装置
气流场分布
模拟分析
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
现代制造工程
主办单位:
北京机械工程学会
北京市机械工业局技术开发研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1671-3133
CN:
11-4659/TH
开本:
大16开
出版地:
北京市西城区核桃园西街36号301A
邮发代号:
2-431
创刊时间:
1978
语种:
chi
出版文献量(篇)
9080
总下载数(次)
14
总被引数(次)
50123
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