Nb掺杂ZnO透明导电薄膜的结构以及光电性能研究

• 作者: 周爱萍 孙艳 高金霞
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO∶ Nb薄膜 薄膜厚度 透明导电薄膜 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 页码范围: 1015-1018
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2602字
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了高质量的Nb掺杂ZnO( NZO)透明导电薄膜.为了研究薄膜厚度对薄膜性质的影响,制备了五个厚度分别为239 nm,355 nm,489 nm,575 nm和679 nm的样品.XRD结果表明,ZnO∶ Nb薄膜是具有六角纤锌矿结构的多晶薄膜,并且具有垂直于衬底的c轴择优取向.随着膜厚的增加,薄膜的结晶质量明显提高.当厚度从239 nm增加到489 nm时,平均晶粒尺寸从19.7 nm增加到24.7 nm,薄膜的电阻率持续减小；当厚度进一步增加时,晶粒尺寸略有减小,电阻率有所增加.本实验获得的最低电阻率为4.896×10-4Ω·cm.随膜厚的增加,光学带隙先增大后减小.所有薄膜在可见光区域的平均透过率均超过88.3％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高金霞	山东理工大学理学院	21	49	5.0	6.0
2	孙艳	山东理工大学理学院	11	21	3.0	4.0
3	周爱萍	山东理工大学理学院	17	53	3.0	6.0