温度对原位反应制备的 Si–B–O–N 陶瓷微观结构及力学性能的影响

• 作者: 侯圣英 吴赟 宋亮 温广武 王智慧 纪伟
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 硅–硼–氧–氮陶瓷 氮化硅 氧化硼 氮化硼 透波陶瓷 原位反应
• 年，卷（期）: 2012,（9）
• 所属期刊栏目: 陶瓷
• 页码范围: 1265-1270
• 分类号: TB332
• 字数: 4215字
• 语种: 中文

摘要

为满足新型透波陶瓷工程应用需要，利用硼酸脱水得到的氧化硼与氮化硅在 1400～1800 ℃原位反应制备 Si–B–O–N 陶瓷。借助 X 射线衍射仪、X 射线光电子能谱仪、Fourier 变换红外光谱分析仪和扫描电子显微镜研究了热处理温度对 Si–B–O–N 陶瓷物相组成、结构及力学性能的影响。结果表明：氧化硼和氮化硅的原位反应在 1600 ℃以上完成，所得产物为氮化硼和掺杂硼、氮元素的石英玻璃，其体积分数分别为 30%和 70%；原位反应结束后，随温度提高，氮化硼生长速率逐渐加快，晶粒尺寸由纳米级逐渐长大为亚微米级，非晶相中硼、氮元素含量逐渐降低；受氮化硼纳米晶强化作用以及非晶相结构影响，在 1700 ℃获得的 Si–B–O–N 陶瓷力学性能较好。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	纪伟	中国兵器工业第五二研究所装甲与反装甲材料技术国防科技重点实验室	7	30	3.0	5.0
2	温广武		34	462	12.0	21.0
3	吴赟	中国兵器工业第五二研究所装甲与反装甲材料技术国防科技重点实验室	1	4	1.0	1.0
4	王智慧	中国兵器工业第五二研究所装甲与反装甲材料技术国防科技重点实验室	11	61	6.0	7.0
5	侯圣英	中国兵器工业第五二研究所装甲与反装甲材料技术国防科技重点实验室	8	35	5.0	5.0