氨水浓度对化学浴沉积的Zn(O,S)薄膜形貌、结构和性能的影响

• 作者: 刘俊 刘军 庄米雪 招瑜 魏爱香
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Zn(O,S)薄膜 化学水浴法 透射率 光学带隙
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 页码范围: 936-941
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 3986字
• 语种: 中文

摘要

采用化学浴法,以ZnSO4·7H2O和SC( NH2)2作为反应前驱物,C6H5O7 Na3·2H2O作为络合剂,NH3·H2O 作为辅助络合剂和缓冲剂制备Zn(O,S)薄膜.采用SEM、EDS、XPS、XRD和透射光谱分析方法,研究氨水浓度对化学浴法制备的Zn(O,S)薄膜形貌、成分、结构和光学性能的影响以及Zn(O,S)薄膜的形成机理.结果表明:Zn(O,S)薄膜是由ZnO和ZnS纳米颗粒混合组成的,ZnO具有纤锌矿结构,ZnS是以非晶相存在.随着反应溶液中氨水浓度的降低,薄膜中所包含的ZnO逐渐减少,ZnS逐渐增加,S/Zn原子比逐渐增加,透射率和光学带隙也逐渐增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘俊	广东工业大学材料与能源学院	33	141	6.0	10.0
2	刘军	广东工业大学材料与能源学院	19	56	5.0	6.0
3	魏爱香	广东工业大学材料与能源学院	42	197	7.0	11.0
4	招瑜	广东工业大学材料与能源学院	17	86	4.0	8.0
5	庄米雪	广东工业大学材料与能源学院	3	3	1.0	1.0