基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
数字集成电路的不断发展和制造工艺的不断进步,使得物理设计面临着越来越多的挑战.特征尺寸的减小,使得后端设计过程中解决信号完整性问题是越来越重要.互连线间的串扰就是其中的一个,所以在后端设计的流程中,对串扰的预防作用也显得尤为重要.本文就TSMC 65nm工艺下,根据具体的设计模块,探索物理设计流程中如何才能更好的预防串扰对芯片时序的影响.
推荐文章
65nm CMOS工艺时钟发生器的设计与实现
Delta-sigma
模数转换器
抖动
锁相环
一种65nm CMOS互连线串扰分布式RLC解析模型
纳米CMOS
互连耦合串扰
分布式RLC解析模型
参数提取
函数逼近
基于65 nm工艺的SOC物理设计中的关键技术研究
65GP
低功耗
拥塞
信号完整性
签核
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 基于65nm工艺数字IC物理设计中信号串扰的预防
来源期刊 电子技术 学科 工学
关键词 串扰 物理设计 数字集成电路
年,卷(期) 2012,(1) 所属期刊栏目 电子技术设计与应用
研究方向 页码范围 47-48
页数 分类号 TN402
字数 1817字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-0755.2012.01.015
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 吴秀龙 安徽大学微纳电子器件与集成电路设计省级实验室 56 135 6.0 8.0
2 王淑芬 安徽大学微纳电子器件与集成电路设计省级实验室 1 6 1.0 1.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (2)
节点文献
引证文献  (6)
同被引文献  (13)
二级引证文献  (2)
2008(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2012(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2015(4)
  • 引证文献(4)
  • 二级引证文献(0)
2016(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
2017(2)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(1)
2019(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
串扰
物理设计
数字集成电路
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子技术
月刊
1000-0755
31-1323/TN
大16开
上海市长宁区泉口路274号
4-141
1963
chi
出版文献量(篇)
5480
总下载数(次)
19
总被引数(次)
22245
论文1v1指导