磁流变-化学机械复合抛光装置设计

• 作者: 祝江停 阎秋生 高伟强
• 来源期刊: 机电工程技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 磁流变抛光 复合抛光
• 年，卷（期）: 2012,（10）
• 页码范围: 84-87
• 分类号: TG580.6
• 字数: 2401字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-9492.2012.10.025

摘要

针对SiC晶片外延膜生长需达到原子级超光滑表面的要求以及加工效率低、表面精度差的问题,提出了一套磁流变-化学机械精密抛光装置,该装置利用软件平台对抛光盘和工件运动精确控制,并具有温度、转速等参数微调及显示功能.对装置的工作原理、结构进行了介绍,并在该装置上进行了工艺试验,取得较高的加工效率和光滑无损伤的加工表面.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阎秋生	广东工业大学机电工程学院	146	787	13.0	20.0
2	高伟强	广东工业大学机电工程学院	59	415	11.0	17.0
3	祝江停	广东工业大学机电工程学院	3	41	3.0	3.0