光敏表面活性剂的研究进展及应用前景

• 作者: 何姗姗 曾俊 杨志 田森林 龙坚
• 来源期刊: 化学研究与应用
• 学科: 工学
• 关键词: 光敏表面活性剂 光化学反应 应用前景
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 评论与综述
• 页码范围: 1015-1019
• 分类号: TQ423
• 字数: 4255字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1656.2012.07.002

摘要

本文综述了光敏表面活性剂的研究进展,指出光敏表面活性剂因所含光敏基团的不同,会发生不同类型的光化学反应,其反应类型主要有光异构、光裂解、光致极性变化、光聚合等几种；并根据光敏表面活性剂的优良特性,介绍了其在环境修复、纳米材料制备、生物医药等方面的应用现状,同时展望了应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田森林	昆明理工大学环境科学与工程学院	114	631	13.0	19.0
2	何姗姗	昆明理工大学环境科学与工程学院	3	13	2.0	3.0
3	龙坚	昆明理工大学环境科学与工程学院	4	17	3.0	4.0
4	杨志	昆明理工大学环境科学与工程学院	9	22	3.0	4.0
5	曾俊	昆明理工大学环境科学与工程学院	4	27	3.0	4.0