基于NMM的AFM测试分析原子光刻纳米光栅样板

• 作者: 尚贤平 李同保 汪黎栋 茅振华
• 来源期刊: 计量技术
• 学科: 工学
• 关键词: 原子光刻技术 纳米光栅样板 基于NMM的AFM测量系统
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 测量与设备
• 页码范围: 6-9,13
• 分类号: TB9
• 字数: 2349字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0771.2012.2.002

摘要

利用激光汇聚中性铬原子沉积出一维纳米光栅样板的基础上,基于 NMM的AFM测量系统对样板进行了测试分析和测试方法研究,得到一维纳米光栅结构平均节距为212.6±0 4nm,与52Cr原子共振跃迁(7S3→7P04)的半波长(λ/2)理论值212.8nm基本一致,测试结果非常准确.文章还介绍利用NMM测量机的大范围扫描测试距离,解决了光栅样板的测试区域快速定位的问题,对研究纳米级精度测量有实用价值及参考意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	尚贤平		43	85	4.0	6.0
2	李同保	同济大学物理系	41	130	7.0	8.0
3	茅振华		20	63	4.0	7.0
4	汪黎栋		7	26	3.0	5.0