铜蚀刻废液制备氧化铜

• 作者: 张晃初 潘湛昌 肖楚民 胡光辉 魏志钢 龚俊
• 来源期刊: 化学与生物工程
• 学科: 地球科学
• 关键词: 氧化铜 铜蚀刻废液 沉淀法 印刷电路板
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 开发应用
• 页码范围: 79-81
• 分类号: X781.1
• 字数: 2045字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-5425.2012.03.022

摘要

采用沉淀法分别以酸性蚀刻废液、酸性和碱性混合蚀刻废液制取氧化铜,并优化了工艺条件.结果表明,酸性蚀刻废液和混合蚀刻废液中铜离子沉淀的最佳pH值分别为9和4.3,氢氧化铜沉淀的最佳分解温度和时间分别为500℃和30 min,采用自来水洗3次、纯净水洗3次的洗涤方式,可有效去除沉淀中的杂质氯离子和铵离子.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡光辉	广东工业大学轻工化工学院	51	138	6.0	8.0
2	潘湛昌	广东工业大学轻工化工学院	122	956	16.0	26.0
3	肖楚民	广东工业大学轻工化工学院	52	582	13.0	21.0
4	张晃初		11	10	2.0	2.0
5	魏志钢	广东工业大学轻工化工学院	43	237	6.0	13.0
6	龚俊		3	6	2.0	2.0