大口径KDP晶体加工相位扰动与三次谐波转换

• 作者: 冯伟 刘崇 唐顺兴 季来林 戴亚平 朱俭 朱宝强 林尊琪 陈明 马伟新
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 非线性光学 相位扰动 三次谐波转换 晶体加工
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 激光器与激光光学
• 页码范围: 68-72
• 页数: 5页
• 分类号: O437.4|O780
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201239.0502012

摘要

根据神光Ⅱ三次谐波转换中的各种现象,分析了晶体中高频周期相位调制的影响.目前国内大口径KDP晶体在中高频段存在强烈周期性相位调制,相位调制周期约20 mm,调制幅度约35 nm,导致三次谐波近、远场产生明显的强度调制,实验测得三倍频的近场周期条纹对比度在0.1～0.3之间,周期约12 mm,理论分析该周期相位调制导致光束下游元件产生自聚焦风险明显增大,并且会引起三倍频远场畸变分裂,可聚焦能力下降.中高频段的周期调制可能来自于晶体加工过程中真空吸附,需要进一步实验判断并在加工中消除周期性的相位扰动.