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摘要:
采用射频磁控溅射方法在玻璃基片上制备了镓掺杂氧化锌(Ga∶ ZnO)透明导电薄膜,通过XRD、XPS、四探针仪和分光光度计等表征技术,研究了衬底温度对Ga∶ ZnO薄膜结构、组分、光学和电学性质的影响.结果表明:所有样品均为具有(002)择优取向的高质量透明导电薄膜,其晶体结构和光电性能与衬底温度密切相关.当衬底温度为673 K时,所制备的Ga∶ ZnO薄膜具有最大的晶粒尺寸(72.6 nm)、最低的电阻率(1.3×10-3Ω·cm)、较高的可见∶ZnO薄膜的光学能隙,结果显示随着衬底温度的升高,薄膜的光学能隙单调增加.
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文献信息
篇名 镓掺杂氧化锌透明导电薄膜的制备及其性能研究
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 氧化锌薄膜 磁控溅射 光电性能
年,卷(期) 2012,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1337-1344
页数 8页 分类号 O484
字数 3231字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 孙奉娄 中南民族大学电子信息工程学院 76 434 13.0 15.0
5 钟志有 中南民族大学电子信息工程学院 67 360 11.0 14.0
9 顾锦华 中南民族大学计算与实验中心 33 183 9.0 12.0
10 杨春勇 中南民族大学电子信息工程学院 48 183 7.0 11.0
11 侯金 中南民族大学电子信息工程学院 18 48 4.0 6.0
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人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
出版文献量(篇)
7423
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38029
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