Ni2+对KDP晶体生长及缺陷影响的研究

• 作者: 丁建旭 孙洵 李毅平 柴向旭 王圣来 王波 许心光 顾庆天
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: KDP晶体 溶液稳定性 缺陷 内应力
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 页码范围: 1153-1157
• 页数: 5页
• 分类号: O781
• 字数: 3205字
• 语种: 中文

摘要

采用传统降温方法生长了不同Ni2+掺杂浓度的KDP晶体.实验发现当Ni2+掺杂浓度小于1000 ppm时溶液的稳定性随着掺杂浓度的增加而提高,大于1000 ppm时溶液的稳定性开始下降,但仍高于纯态溶液的稳定性；随着Ni2+浓度的增加KDP晶体柱面的生长死区增加,柱面的生长速度略有下降,但在生长过程中没有观察到晶体的楔化；KDP晶体的XRD分析及缺陷的研究表明Ni2+对晶体的结构影响不明显,但晶体中的缺陷和内应力增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙洵	山东大学晶体材料国家重点实验室	51	403	11.0	17.0
2	王波	山东大学晶体材料国家重点实验室	96	496	12.0	18.0
3	王圣来	山东大学晶体材料国家重点实验室	43	448	12.0	18.0
4	顾庆天	山东大学晶体材料国家重点实验室	35	338	10.0	17.0
5	李毅平	山东大学晶体材料国家重点实验室	12	153	8.0	12.0
6	丁建旭	山东大学晶体材料国家重点实验室	12	50	5.0	6.0
7	柴向旭	山东大学晶体材料国家重点实验室	2	6	2.0	2.0