闪耀全息光栅离子束刻蚀工艺模拟及实验验证

• 作者: 吴娜 唐玉国 巴音贺希格 谭鑫
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 闪耀光栅 全息光栅 衍射效率 刻蚀模拟 离子束刻蚀
• 年，卷（期）: 2012,（9）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 1904-1912
• 分类号: O436.1|TN305.7
• 字数: 3227字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20122009.1904

摘要

依据特征曲线法推导了非晶体表面的离子束刻蚀模拟方程,结合全息光栅的刻蚀特点开发出离子束刻蚀模拟程序,并通过实验数据分析并优化了非晶体材料刻蚀速率与离子束入射角的关系方程,最后利用离子束刻蚀实验对所开发的离子束刻蚀模拟程序进行了实验验证.调节掩模与基底材料的刻蚀速率比为2∶1至1∶2,制作了线密度为1 200 1/mm,闪耀角为～8.6°,非闪耀角为34°～98°的4种闪耀光栅,与刻蚀模拟程序的结果进行对比,模拟误差＜5％；控制离子束刻蚀时间为6～14 min,制作了线密度为1 200 1/mm,闪耀角为～8.6°,顶角平台横向尺寸为0～211 nm的6种光栅,与刻蚀模拟程序的模拟结果进行对比,模拟误差＜1％.比较实验及离子束刻蚀模拟结果表明,离子束刻蚀模拟程序获得的模拟刻蚀轮廓曲线与实际刻蚀轮廓曲线的误差＜5％；模拟刻蚀截止点与实际刻蚀截止点误差＜1％.实验表明,提出的模拟方程可以准确地描述不同工艺过程和工艺参数对最终刻蚀结果的影响,进而可预知和控制离子束刻蚀过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴音贺希格	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	112	817	16.0	23.0
2	唐玉国	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	79	905	17.0	26.0
3	谭鑫	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	16	55	4.0	7.0
4	吴娜	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	20	91	6.0	9.0