电压和时间对铝铜铸造合金微弧氧化膜层的影响

• 作者: 周小淞 张晓燕 王宇博 葛飞
• 来源期刊: 铸造技术
• 学科: 工学
• 关键词: Al-Cu系铸造合金 微弧氧化 电压 时间
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 材料保护及表面工程
• 页码范围: 801-803
• 分类号: TG174.44
• 字数: 1510字
• 语种: 中文

摘要

在硅酸盐体系中,分别在不同的电压(450、500和550 V)下对4组试样进行不同时间(20、40、60和80min)的微弧氧化实验,并结合试样生成膜层的厚度、硬度、耐蚀性能及SEM分析,探索不同电压和时间对Al-Cu系铸造合金表面微弧氧化陶瓷膜层的影响.结果表明,在550V电压下,微弧氧化60min时,材料表面获得最佳的微弧氧化膜层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张晓燕	贵州大学材料与冶金学院	103	488	11.0	16.0
5	周小淞	贵州大学材料与冶金学院	5	29	3.0	5.0
6	葛飞	贵州大学材料与冶金学院	4	15	2.0	3.0
7	王宇博	贵州大学材料与冶金学院	1	1	1.0	1.0