微弧氧化工艺参数对BaTiO_3和SrTiO_3薄膜生长的影响

• 作者: 李文芳 王敏 郭会勇 黄文波
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 钛酸钡 钛酸锶 介电性能
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 表面改性表回双任
• 页码范围: 125-130
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文

摘要

将工业纯Ti板（99.5%）分别置于Ba（OH）2、Sr（OH）2＋NaOH溶液中微弧氧化制备BaTiO3和SrTiO3陶瓷薄膜。XRD分析表明：所制备的薄膜分别主要由四方相BaTiO3和立方相SrTiO3组成。测得最优工艺条件下所得两种薄膜在100 Hz下的介电常数分别为152.3和419.1,介质损耗（tanδ）值分别为0.096和0.045。重点研究了微弧氧化工艺参数对薄膜生长的影响规律,结果表明：随着电解液溶度、电流密度的增加以及电流频率的降低,薄膜的生长速度加快;提出并验证了薄膜生长动力学的经验公式。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李文芳	华南理工大学材料科学与工程学院	157	1463	20.0	30.0
2	黄文波	华南理工大学材料科学与工程学院	30	223	10.0	14.0
3	郭会勇	华南理工大学材料科学与工程学院	6	14	3.0	3.0