钼合金表面MoSi2涂层的制备工艺和形成机理

• 作者: 成会朝 成创功 李鹏飞 田家敏 范景莲
• 来源期刊: 中南大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: MoSi2涂层 催化剂 球磨时间 形成机理
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 2506-2512
• 分类号: TG146.412
• 字数: 3358字
• 语种: 中文

摘要

采用包埋渗硅法在钼合金表面上制备MoSi2涂层,研究粉料成分、粒度和反应时间对涂层厚度的影响,分析MoSi2涂层的形成机理.研究结果表明:随着粉料中硅粉和活化剂粉末含量的增加,涂层的厚度呈现先增加后降低趋势；粉料中活化剂的质量分数为10％时,能够制备厚度为130 μm的涂层:高能球磨能够提高粉末的表面活性,促进涂层生长,球磨30 h的硅粉粉料在高温下渗硅15 h后,涂层厚度能够达到160 μm.MoSi2涂层的生长受扩散反应过程控制,形成的涂层包括2层:外层为MoSi2层,内层为Mo5Si3过渡层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范景莲	中南大学粉末冶金国家重点实验室	213	2626	23.0	40.0
2	成会朝	中南大学粉末冶金国家重点实验室	74	728	15.0	23.0
3	田家敏	中南大学粉末冶金国家重点实验室	79	754	16.0	22.0
4	李鹏飞	中南大学粉末冶金国家重点实验室	40	136	7.0	9.0
5	成创功	中南大学粉末冶金国家重点实验室	4	37	4.0	4.0