超高真空脉冲激光沉积Au、U单层膜及Au/U/Au复合膜研究

• 作者: 吕学超 周萍 张永彬 肖红 赖新春 赵天明 郎定木 陆雷
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 金 铀 薄膜 脉冲激光沉积
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 861-866
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文

摘要

采用超高真空脉冲激光沉积(PLD)方法,在单晶Si基底表面制备了单层Au、单层U薄膜和Au/U/Au复合薄膜,应用SEM、白光干涉轮廓分析和AES分析,研究了靶基距、基片温度和激光能量对薄膜形貌、成分的影响.目前的实验结果显示,PLD所制备的Au、U薄膜表面有μm级以下粒径的液滴产生,在液滴较少位置,薄膜表面粗糙度Ra小于1 nm,在包含大液滴位置,Ra不超过15 nm.在相同沉积条件下,U薄膜表面液滴数量大于Au薄膜.优化单层薄膜沉积工艺后制备的Au/U/Au复合膜厚度约为195 nm,均方根粗糙度Rq在0.3～1.5 nm之间.AES分析显示,Au/U/Au复合膜中强化学活性的铀呈金属状态,复合膜中的氧含量低于5％(原子百分数),表层Au薄膜对U薄膜起到了良好的防氧化作用.在沉积工艺中,通过减小激光功率、增大靶基距并适当升高基片温度,可减少液滴的数量及粒径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郎定木		40	144	8.0	9.0
2	吕学超		29	121	6.0	9.0
3	肖红		26	59	5.0	6.0
4	陆雷		19	54	5.0	6.0
5	赖新春		26	85	6.0	7.0
6	张永彬		11	27	3.0	5.0
7	赵天明		2	1	1.0	1.0
8	周萍		8	22	2.0	4.0