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摘要:
采用三倍频射频辉光放电聚合技术,利用低压等离子聚合装置在不同功率条件下制备辉光放电聚合物(GDP)薄膜.利用表面轮廓仪、Fourier变换红外光谱仪表征所制备薄膜在不同功率下的生长速率和化学结构,讨论了功率变化对薄膜生长速度和化学结构的影响.利用元素分析仪和紫外可见光谱仪表征GDP薄膜中碳氢原子比和光学性质.研究表明:薄膜的生长速率随射频功率的增大先增加后减少,功率为40w时,生长速率可达到0.34pμm/h.在波长大于500nm的可见光区,GDP薄膜的光学透过率都在90%以上.GDP薄膜的光学问隙随射频功率的增大先减少后增加,射频功率为50w时制备GDP薄膜的光学间隙最小.
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关键词云
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文献信息
篇名 射频功率对辉光聚合物薄膜结构与光学性质的影响
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 辉光放电聚合物 沉积速率 Fourier红外吸收 光学性质
年,卷(期) 2012,(10) 所属期刊栏目 凝聚物质:结构、力学和热学性质
研究方向 页码范围 356-361
页数 分类号 O484.1
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杜凯 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 72 527 11.0 19.0
2 韦建军 四川大学原子与分子物理研究所 57 239 8.0 12.0
3 何智兵 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 46 212 7.0 11.0
4 张颖 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 29 99 5.0 9.0
5 廖国 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 3 17 2.0 3.0
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辉光放电聚合物
沉积速率
Fourier红外吸收
光学性质
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物理学报
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11-1958/O4
大16开
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1933
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