压强对PECVD制备碳纳米管的影响

• 作者: 席彩萍
• 来源期刊: 河南科学
• 关键词: 碳纳米管 沉积压强 PECVD
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 物理与化学研究
• 页码范围: 173-175
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-3918.2012.02.009

摘要

采用等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD),以C2H2、H2和N2为反应气体,在镀Ni催化剂的Si基底上成功制备出多壁碳纳米管薄膜.并通过扫描电镜拍摄其表征,系统、深入地研究了沉积压强对碳管形貌的影响.结果表明:沉积压强对催化剂的刻蚀和碳纳米管薄膜的形成起着重要作用,获得定向性良好、分布均匀、密度适中的碳纳米管的最佳沉积压强是300 Pa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	席彩萍		27	37	3.0	5.0