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联(口恶)二唑的合成与光谱性质
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摘要：
合成5个5,5'-二芳基-2,2'-联-1,3,4-(口恶)二唑,化合物的结构经1H NMR、FTIR、MS表征.光谱分析表明:在282-315nm出现最大紫外-可见吸收峰；在二甲基甲酰胺溶液中,342-381nm出现最大荧光发射峰,是一类紫色发光材料.
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合成
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合成
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研究主题发展历程
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草酸
(口恶)二唑
合成
光谱性质
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期刊影响力
光谱实验室
主办单位：
中科院化工冶金研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
1004-8138
CN：
11-3157/O4
开本：
16开
出版地：
北京市高梁桥斜街13号院35号楼204室
邮发代号：
82-863
创刊时间：
1984
语种：
chi
出版文献量（篇）
6771
总下载数（次）
3
总被引数（次）
37136
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