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摘要:
采用三维粒子模拟/蒙特卡洛模型自洽地模拟了增强辉光放电等离子体离子注入过程中离子产生和注入,获得了放电空间的离子总数、电势分布、等离子体密度分布和离子入射剂量等信息.模拟结果表明,5μs时鞘层达到稳定扩展,15μs时离子的产生与注入达到平衡,证实了增强辉光放电等离子体离子注入能在一定条件下实现白持的辉光放电.注入过程中,在点状阳极正下方存在一个高密度的等离子体区域,证实了电子聚焦效应.除靶台边缘外,离子的注入速率稳定且入射剂量均匀.脉冲负偏压提高时注入速率增加但入射剂量的均匀性变差.
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文献信息
篇名 增强辉光放电等离子体离子注入的三维PIC/MC模拟
来源期刊 物理学报 学科 工学
关键词 三维粒子模拟 蒙特卡洛 等离子体浸没离子注入 数值模拟
年,卷(期) 2012,(22) 所属期刊栏目 气体、等离子体和放电物理
研究方向 页码范围 287-293
页数 分类号 TN124
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李刘合 北京航空航天大学机械工程及自动化学院 39 653 12.0 25.0
2 李芬 北京航空航天大学机械工程及自动化学院 4 199 2.0 4.0
3 陶婵偲 北京航空航天大学机械工程及自动化学院 2 3 1.0 1.0
4 何福顺 北京航空航天大学机械工程及自动化学院 1 2 1.0 1.0
5 顿丹丹 北京航空航天大学机械工程及自动化学院 2 2 1.0 1.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
三维粒子模拟
蒙特卡洛
等离子体浸没离子注入
数值模拟
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
出版文献量(篇)
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174683
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