多晶氧化物薄膜及复合膜系应力模型

• 作者: 方明 李朝阳 李静平 范正修 贺洪波 邵建达
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 应力模型 多晶膜 复合膜 应力演化
• 年，卷（期）: 2012,（10）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 293-297
• 页数: 5页
• 分类号: O484.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201232.1031004

摘要

基于膜层结构的弛豫现象,建立了一个多晶膜的应力演化模型,并通过线性组合给出了复合膜的生长应力模型.利用双光束基底曲率测量装置实时测量了电子束蒸发氧化铪、氧化硅多晶膜及其复合膜的应力演化过程,并对测量结果进行了拟合分析.