椭偏法表征四面体非晶碳薄膜的化学键结构

• 作者: 周毅 孙丽丽 李晓伟 汪爱英
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 化学键 椭偏法 磁过滤阴极真空弧 四面体非晶碳
• 年，卷（期）: 2012,（10）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 298-304
• 页数: 7页
• 分类号: O484.41
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201232.1031005

摘要

采用自主研制的双弯曲磁过滤阴极真空电弧(FCVA)技术,在不同衬底负偏压下制备了四面体非晶碳(ta-C)薄膜.通过分光光度计和椭偏(SE)联用技术精确测量了薄膜厚度,重点采用椭偏法对不同偏压下制备的ta-C薄膜sp3C键和sp2C键结构进行了拟合表征,并与X射线光电子能谱(XPS)和拉曼光谱的实验结果相对比,分析了非晶碳结构的椭偏拟合新方法可靠性.结果表明,在-100 V偏压时薄膜厚度最小,为33.9 nm;随着偏压的增加,薄膜中的sp2C含量增加,sp3C含量减小,光学带隙下降.对比结果发现,椭偏法作为一种无损、简易、快速的表征方法,可用于ta-C薄膜中sp2C键和sp3C键含量的准确测定,且在采用玻璃碳代表纯sp2C的光学常数及拟合波长选取250～1700 nm时的椭偏拟合条件下,拟合数值最佳.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周毅	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	166	1687	23.0	36.0
2	孙丽丽	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	15	61	5.0	7.0
3	汪爱英	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	33	206	9.0	13.0
4	李晓伟	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	11	31	3.0	5.0