扫描质子微探针质子束刻写

• 作者: 余本海 刘江峰 包良满 张仲建 李晓林 雷前涛
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 质子束刻写 扫描质子微探针 微结构 抗蚀剂 旋转涂胶
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 1603-1607
• 分类号: O571.33|O472
• 字数: 3485字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20122407.1603

摘要

质子束刻写技术利用MeV能量的聚焦质子束对抗蚀剂材料直接刻写μm甚至nm尺度微结构.研究了质子束刻写中抗蚀剂胶层样品厚度与涂层机旋转速度的关系以及曝光对抗蚀剂的影响,解决了质子束刻写中抗蚀剂厚胶层样品的制备、固化、显影等技术问题,利用扫描质子微探针系统,在正型抗蚀剂胶层上刻写出μm尺度的“海宝”图形、双矩形结构,在负型抗蚀剂上刻写出μm 尺度的平行线条、“十”字形微结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	包良满	中国科学院上海应用物理研究所核分析技术重点实验室	13	257	6.0	13.0
2	余本海	信阳师范学院物理电子工程学院	53	133	6.0	9.0
3	雷前涛	中国科学院上海应用物理研究所核分析技术重点实验室	7	18	2.0	4.0
5	刘江峰	信阳师范学院物理电子工程学院	15	19	2.0	3.0
8	张仲建	中国科学院上海应用物理研究所核分析技术重点实验室	1	1	1.0	1.0