超高硬度纳米复合薄膜Ti-Si-N结构的研究进展

• 作者: 任元 刘学杰 孙士阳 谭心 郭金鸽
• 来源期刊: 材料导报
• 关键词: Ti-Si-N薄膜 纳米复合结构 界面结构
• 年，卷（期）: 2012,（z1）
• 所属期刊栏目: 纳米复合材料
• 页码范围: 94-97
• 页数: 4页
• 字数: 3258字
• 语种: 中文

摘要

综述了Ti-Si-N超硬纳米复合薄膜结构形式的研究进展.介绍了研究者对Si原子在Ti-Si-N中形成的晶界是否为晶态的认识与研究,阐述了Si原子在Ti-Si-N中所形成的界面结构形式的研究现状以及Ti-Si-N薄膜沉积过程中的形成机制,并展望了Ti-Si-N超硬纳米复合薄膜今后的研究方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘学杰	内蒙古科技大学机械工程学院	57	114	6.0	7.0
2	孙士阳	内蒙古科技大学机械工程学院	19	25	3.0	4.0
3	谭心	内蒙古科技大学机械工程学院	46	106	5.0	7.0
4	任元	内蒙古科技大学机械工程学院	31	62	4.0	6.0
5	郭金鸽	内蒙古科技大学机械工程学院	3	31	1.0	3.0